硅基肖特基二极管编辑

日期:2020-01-09     浏览:176    
0硅基肖特基二极管简介
由于SiC 材料具有禁带宽度大,载流子迁移率较高( 达到Si 材料的80%),进入了研究人员的视线,多种结构SiC 基器肖特基结器件见诸报道。但SiC 材料昂贵,适用于制造600 V ~ 3000 V 的高速器件。因此在300 V ~ 500 V 电压范围内,硅基肖特基结二极管仍有很大的市场空间。
中文名
硅基肖特基二极管
外文名
silicon-basedSchottky diodes
1硅基肖特基二极管1概述
2硅基肖特基二极管2 硅基肖特基势垒二极管结构
MBR1045、HBR10100A是单外延保护环结终端肖特基势垒二极管(简称S-SBD)。MBR1045、HBR10100A的肖特基金属分别为Ni和Ti。MBR1045、HBR10100A 的主要工艺流程为外延片→场氧化→P保护环光刻→P保护环腐蚀→P注入→P推结→肖特基接触形成→欧姆接触形成。其中注入工艺中的注入剂量和能量分别是 1×10cm,60keV。P推结是利用限定源扩散工艺实现的,表面浓度大约在1×1019cm。 
3硅基肖特基二极管3 硅基肖特基势垒二极管特性
4硅基肖特基二极管参考资料

1.  孙子茭 .4H_SiC肖特基二极管的研究 :电子科技大学 ,2013
2.  王一帆,王朝林,刘肃,何少博.300 V 以上硅基新型JBS 肖特基二极管的制备 :电子器件 ,2011
3.  李婷 .功率肖特基二极管及其关键技术研究 :哈尔滨工业大学 ,2012
 
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